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172nm紫外线光清洗解决方案是利用有机化合物的光复合作用，去除黏附在材料表面的有机物，经过光清洗后的材料表面可以达到“原子清洁度”。
应用领域：
显示器基板、半导体硅晶圆、集成电路、光学器件、LCD、电子纸、AR 镜片以及微纳制造等材料的清洗。
产品特点：
无汞
高能光子产生羟基自由基 (HO*)
品质稳定，交期可靠，产能大
可定制的灯设计，应用灵活
规格参数：
| 型号 | 功率 | 尺寸 | 发光长度 | 产品代码 |
| 172E860D40×957 | 860W | φ40*957mm | 860mm | A520121 4001000 |
| 172E172D26.5×908 | 172W | φ26.5*908mm | 842mm | A5201215001000 |
172nm紫外线光清洗解决方案是利用有机化合物的光复合作用，去除黏附在材料表面的有机物，经过光清洗后的材料表面可以达到“原子清洁度”。
应用领域：
显示器基板、半导体硅晶圆、集成电路、光学器件、LCD、电子纸、AR 镜片以及微纳制造等材料的清洗。
产品特点：
无汞
高能光子产生羟基自由基 (HO*)
品质稳定，交期可靠，产能大
可定制的灯设计，应用灵活
规格参数：
| 型号 | 功率 | 尺寸 | 发光长度 | 产品代码 |
| 172E860D40×957 | 860W | φ40*957mm | 860mm | A520121 4001000 |
| 172E172D26.5×908 | 172W | φ26.5*908mm | 842mm | A5201215001000 |
