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特点与优势
广明源作为光科技应用创新型、定制化解决方案提供者,特别是在高端制造领域,与用户联合开发提供完善匹配的解决方案,包括光清洗、光固化、光改性,以及纯水处理和挥发性有机物处理等。目前很多高端制造用核心光源主要依赖进口,我们致力于供应链补链及提供更符合需求的、更具性价比的光应用解决方案。凭借团队的专业背景和深厚积累,我们在这个领域具有明显的优势,我们的目标是以创新和高效满足客户需求,赢得了广泛的客户认可和青睐。
光 清 洗
广明源的172nm紫外线光清洗技术基于光化学氧化原理,通过照射紫外线在有机物表面产生自由基,将有机物氧化为水和二氧化碳,从而有效去除物质表面附着的有机物。我们提供尖端的解决方案,广泛应用于以下领域:
• 液晶显示器件
• 半导体硅晶圆
• 集成电路
• 光学器件
• 太阳能电池制造
• 生物制药
• 微纳制造
光 固 化
广明源的尖端解决方案之一是172nm准分子光固化技术,利用172纳米波长的高能紫外线打断分子键,促进单体分子交联反应,实现材料固化。相较于传统紫外线固化技术,该技术更精准地控制表面功能性固化,缩短固化时间,同时实现优异的表面固化改性效果。适用于以下领域:
• 涂覆和粘接
• 打印
• 喷墨
• 3D打印
• 包装行业
纯水制备 TOC 降解
广明源提供创新的紫外光系统,通过产生自由基在水中将有机物氧化为CO2和H2O分子,实现了TOC的降解和消耗。我们的185nm紫外线光源部件广泛应用于纯水制备,而我们的先进172nm准分子灯技术则能更加高效地降解TOC,特别适用于超高纯水的制备。
• 用于超纯水生产的总有机碳(TOC)去除
• 饮用水中微污染物处理
• 农药残留物分解
• 纺织染料废水的光催化脱色
• 高纯度臭氧生成
疏 水 改 性
广明源的紫外线灯可产生172nm紫外线,清除材料表面的碳氢化合物,提高表面的亲水性。在某些情况下,甚至可以实现完全亲水化,让整个表面变得润湿,液滴转化为液膜。
• 钛金属
• 硅片
• 铝箔
• ITO玻璃基板
• 塑料:PP, PC, PE, PMMA, PET, PVC,PS。

相关产品

纯水TOC降解处理是一种高效去除水中有机物的方法,而高能紫外线的辐照处理是在获得超纯水的处理工序中至关重要的一步。广明源172nm紫外氧化处理技术是利用先进的无汞紫外光技术发射高能172nm紫外光,促使水体中生成自由基,进而将有机物氧化为二氧化碳(CO2)和水(H2O)分子,实现高效快速地降解TOC,从而将水中TOC含量降低到ppb级别。
广明源光清洗技术基于光化学氧化原理,通过照射172nm紫外线在有机物表面产生自由基,带自由基的有机物和氧自由基碰撞形成氧化反应,将有机物氧化为水和二氧化碳,从而有效去除物质表面附着的有机物广明源紫外线光清洗技术作为一种创新光化学方法,集绿色环保高效可靠等优点于一体,经过光清洗后的材料表面可以达到“原子清洁度”
广明源准分子光固化技术的核心原理,通过准分子灯产生的172nm紫外光发出高能辐射,使得分子键断裂,并促进不同单体分子之间的交联反应,实现材料的功能性固化。相较于传统紫外线固化技术,172nm准分子光固化具备精准控制表面功能性固化的能力,同时具有固化速度快、高效环保、经济节能以及性能优越等优点。
172nm紫外线(PET)光清洗模组专为薄膜基材(如PIPET)表面纳米级有机污染物清洗设计利用172nm紫外光的高能光子作用,有效去除表面残留有机杂质,提升后续真空镀膜贴合涂布等工艺良率广泛应用于光电子柔性显示半导体光学薄膜及电子器件制造等行业,尤其适用于高洁净度高附着力要求的表面处理工序
广明源172nm紫外氧化技术采用无汞紫外光源,高效激发自由基,将水中有机物快速氧化为CO2和H2O,显著降低TOC至ppb级本模块专为超纯水系统开发,适用于半导体医药生物制药精密电子及生化实验室超纯水系统,满足对超纯水的TOC降解应用模块化结构设计,便于维护更换与系统扩展,同时可按需定制不同功率与流量规格
172nm高能紫外设备可对金属材料和硅基材料表面的有机颗粒进行高能分解与清洁,以提升半导体或电池的性能。该设备利用172nm高能紫外光子打破有机分子的化学键,将其分解为更小的分子或原子。在此过程中,172nm紫外光子与空气中的氧气反应生成活性氧和臭氧,臭氧进一步分解产生更多的活性氧。这些活性氧分子通过氧化反应与分解后的有机分子作用,生成可挥发的氧化物,从而完成表面清洁。172nm高能紫外设备能够高效去除表面有机污染物,且不会对基材表面造成损害,实现非破坏性清洁。
此外,通过精确控制光强,172nm高能紫外设备还能够实现基材表面纳米级的改性以及光固化。

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