172nm高能光清洗机
172nm高能光清洗机用于金属材料或硅基材料表面有机微粒的高能分解与清洗,以提高半导体或电池等元器件的性能。该产品利用高能量的172nm紫外光子,切断有机物分子的化学键,将其分解成更小的分子或原子;与此同时,172nm紫外光子与空气中的氧气共同作用,成活性氧和臭氧,臭氧进一步分解产生更多的活性氧。这些活性氧与分解后的有机分子发生氧化反应,生成氧化物并挥发,从而完成表面清洗。172nm高能光清洗机不仅能高效去除表面有机污染物,且可避免对基材表面造成损伤,实现无损清洗。
此外,通过精确控制照度,172nm准分子光还能对基材表面完成纳米级别改性。