172nm准分子灯

172nm高能紫外设备可对金属材料和硅基材料表面的有机颗粒进行高能分解与清洁，以提升半导体或电池的性能。该设备利用172nm高能紫外光子打破有机分子的化学键，将其分解为更小的分子或原子。在此过程中，172nm紫外光子与空气中的氧气反应生成活性氧和臭氧，臭氧进一步分解产生更多的活性氧。这些活性氧分子通过氧化反应与分解后的有机分子作用，生成可挥发的氧化物，从而完成表面清洁。172nm高能紫外设备能够高效去除表面有机污染物，且不会对基材表面造成损害，实现非破坏性清洁。
此外，通过精确控制光强，172nm高能紫外设备还能够实现基材表面纳米级的改性以及光固化。

纯水TOC降解处理是一种高效去除水中有机物的方法，而高能紫外线的辐照处理是在获得超纯水的处理工序中至关重要的一步。广明源172nm紫外氧化处理技术是利用先进的无汞紫外光技术发射高能172nm紫外光，促使水体中生成自由基，进而将有机物氧化为二氧化碳(CO2)和水(H2O)分子，实现高效快速地降解TOC，从而将水中TOC含量降低到ppb级别。

广明源准分子光固化技术的核心原理，通过准分子灯产生的172nm紫外光发出高能辐射，使得分子键断裂，并促进不同单体分子之间的交联反应，实现材料的功能性固化。相较于传统紫外线固化技术，172nm准分子光固化具备精准控制表面功能性固化的能力，同时具有固化速度快、高效环保、经济节能以及性能优越等优点。

广明源光清洗技术基于光化学氧化原理，通过照射172nm紫外线在有机物表面产生自由基，带自由基的有机物和氧自由基碰撞形成氧化反应，将有机物氧化为水和二氧化碳，从而有效去除物质表面附着的有机物。广明源紫外线光清洗技术作为一种创新光化学方法，集绿色环保、高效可靠等优点于一体，经过光清洗后的材料表面可以达到“原子清洁度”。

广明源172nm光改性模组，专为牙科种植体活化亲水仪设计，主要用于真空环境中对材料表面进行改性。该模组通过172nm准分子光催化技术，有效激活种植体表面的亲水性，清除钛金属表面的碳氢化合物，从而增强TiO2的生物活性。广明源172nm光改性模组，具备高能量密度、低反应温度、反应时间短以及覆盖面积大且均匀等优势。