172nm高能紫外仪
172nm高能紫外设备可对金属材料和硅基材料表面的有机颗粒进行高能分解与清洁,以提升半导体或电池的性能。该设备利用172nm高能紫外光子打破有机分子的化学键,将其分解为更小的分子或原子。在此过程中,172nm紫外光子与空气中的氧气反应生成活性氧和臭氧,臭氧进一步分解产生更多的活性氧。这些活性氧分子通过氧化反应与分解后的有机分子作用,生成可挥发的氧化物,从而完成表面清洁。172nm高能紫外设备能够高效去除表面有机污染物,且不会对基材表面造成损害,实现非破坏性清洁。
此外,通过精确控制光强,172nm高能紫外设备还能够实现基材表面纳米级的改性以及光固化。