邀请函：广明源邀您共赴SEMI-e深圳国际半导体展

广明源诚挚邀请您莅临SEMI-e第七届深圳国际半导体展暨2025集成电路产业创新展。本届展会将于2025年9月10-12日在深圳国际会展中心（宝安新馆）盛大举办，广明源将携172nm准分子光应用方案与创新产品亮相，与全球行业精英共探半导体技术发展趋势，携手推动产业升级。

观展指南

SEMI-e深圳国际半导体展暨2025集成电路产业创新展

时间：2025年9月10-12日

地点：深圳国际会展中心（宝安）

展位号：13G27

展品预告

广明源将重点展示以 172nm准分子光技术 为核心的多项应用方案，覆盖半导体制造关键环节：

晶圆/掩膜版光清洗解决方案

√ 功能：高效去除晶圆及掩膜版表面微观有机污染物，实现超净化处理。

√ 优势：无化学残留、低温无损伤、原子级洁净度。

√ 应用：晶圆、光罩、掩膜版、显示屏、PET、PCB 等的表面有机污染物清洁、封装前预处理、光刻胶去除。

172nm清洁纳米压印模具，提高洁净度

晶圆键合改性解决方案

√ 功能：精准调节表面亲水性和粘附性能，提升键合效果。

√ 优势：低热效应、快速处理、无化学残留。

√ 应用：薄膜沉积前处理、MEMS封装、3D封装、晶圆键合、倒装芯片及引线键合等高精度芯片制造环节。

照射后，亲水性提高，接触角明显变小

超纯水TOC降解解决方案

√ 功能：高效降解超纯水系统中的总有机碳（TOC），洁净度可达ppb级。

√ 优势：无化学添加、在线降解、稳定可靠。

√ 应用：半导体晶圆制程、显示面板生产等超纯水系统。

超纯水TOC降解原理

制程验证开发解决方案

专为半导体工艺研发、制程验证及小批量试产设计的172nm MINI实验模组，具备结构紧凑、便于部署、灵活可移、成本可控等特点，适用于多种实验环境及工艺验证需求。

√ 功能：高效分解晶圆表面有机残留，提升洁净度与附着性能。

√ 优势：高集成轻量化设计，便于搭建实验环境。

√ 应用：表面有机污染物去除、表面活化与改性、封装工艺前处理及超净化超微细清洗工艺验证。

172nm MINI实验模组

我们诚挚邀请您莅临广明源展位（13G27），近距离了解我们的创新光科技应用方案，共话半导体产业的未来发展！