展会首日直击｜广明源172nm准分子解决方案，赋能半导体精密制造

今日，第27届中国国际光电博览会(CIOE)、国际集成电路创新博览会(IICIE)、elexcon深圳国际电子展暨嵌入式展三展联动，在深圳国际会展中心盛大启幕。

在这场汇聚全球光电与集成电路领域精英的盛会中，广明源（展位号：14C108）携172nm准分子技术亮相，聚焦半导体精密制造，与行业同仁共探准分子光技术国产化创新发展之路。

Part 01  现场直击：面对面深度交流

开展首日，广明源展位吸引了行业专家、工程技术人员、采购客商等前来驻足观摩、咨询洽谈。

大家围绕172nm准分子技术在高端制造中的落地优势、适用场景及量产价值展开深度对话。这不仅是一次技术与需求的对接，更充分彰显了广明源在准分子光领域的深厚技术积淀与卓越的研发实力。

Part 02  技术看点：赋能半导体制造关键制程

经过长期技术迭代与工艺打磨，广明源172nm准分子系列产品已在半导体、显示面板等领域展现出显著的应用优势。本次展会的重点展品如下：

172nm准分子光源

具备高光效、窄波宽特性，能量集中度高且输出性能稳定。采用非接触式冷光源技术，无热应力损伤，适配各类热敏材料的精密加工工艺。

172nm准分子模组

①172nm MINI实验模组

专为半导体工艺研发、制程验证及小批量试产打造，具备结构紧凑、便于部署、灵活可移、成本可控等特点。

②晶圆光清洗模组

专为晶圆基材光清洗设计，可高效去除纳米级有机污染物，提升后续镀膜、键合工艺成品良率，保障制程精度与稳定性。

③高能紫外仪

适配实验验证与应用开发场景，有效缩短验证周期，加速技术成果落地，适用于光清洗、光固化及光改性等领域。

④172nm超纯水TOC降解模组

专为半导体工厂超纯水系统打造，采用纯物理氧化技术，无需化学添加，无汞更环保，高效降解水中总有机碳，保障清洗、蚀刻等关键环节水质纯净，助力产品良率提升。

RTP系统解决方案

基于卤素灯阵辐射技术，实现非接触、高均匀性、快速升降温的热处理，适用于晶圆、薄膜、SiC及先进材料热处理场景，有效改善成膜质量与器件电学性能。

本次展会将持续至9月11日，广明源期待与各界新老客户、行业同仁相聚深圳国际会展中心14C108展位，现场了解172nm准分子光源应用效果与技术细节，解锁光科技赋能半导体与集成电路高端制造、提质降本的新路径。