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2024亚洲水技术展览会将于12月11-13日在上海新国际博览中心盛大开幕。广明源诚挚邀请您莅临N1A65展位，共同探讨光科技在水行业的多元化应用，共襄行业盛会！
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11月8日，深圳国际全触与显示展圆满闭幕。广明源在此次展会中隆重展出了光清洗、光固化、光改性及纯水处理 TOC 降解等多项先进的光科技解决方案，成功吸引了众多参观者的目光。其中，172nm 光清洗准分子灯以其创新性的设计和高效的性能，成为本次展会的一大亮点。 172nm光清洗准分子灯创新光清洗技术广明源的172nm光清洗准分子灯可以辐射高能的172nm紫外线，其高能光子能够打破有机污染物分子的化学键，有效将其分解为水和二氧化碳。应用领域：它主要应用于显示器基板、半导体硅晶圆、集成电路、光学器件、LCD、电子纸、AR镜片及微纳制造等领域的材料清洗，为这些行业提供技术支持。172nm高能紫外仪光
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26载凝心聚力，与光同行广明源生日快乐2024年8月9日今天，是广明源的第26个生日。26年前，风雨兼程，砥砺前行；312个月，笃志向新，与光同行；9496个朝夕，见证光科技创新的力量。在此，感谢合作伙伴们一直以来的信赖与支持，感谢全体员工的辛勤付出。 创新是第一动力26载初心不改，追寻光的步伐永不停息。广明源以锲而不舍的创新精神积极参与国家重点项目研发，并为各行业的合作伙伴提供优质的光科技解决方案。 国家重点研发项目l 承担国家重点研发计划项目《冷链物流消毒与人机共存场景下绿色智能消毒关键技术与装备研发》。l 与中国科学院电工研究所合作开展，储能电容器薄膜性能突破研究。 光科技创新应用近年来
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随着科技飞速发展，半导体行业在现代工业中扮演着关键角色，涵盖从计算机、智能手机到各种家用电器。然而，半导体制造过程复杂且严格，任何微小污染或缺陷都会严重影响产品的良率和性能。因此，高效、无损的清洗技术在半导体生产中尤为重要。广明源推出了创新的172nm高能光清洗机，为半导体行业提供一种革新的清洗方案。 广明源172nm高能光清洗机利用高能量的172nm紫外光子，能够切断有机物分子的化学键，使其分解成更小的分子自由基。同时，空气中的氧气吸收这些光子后生成活性氧和臭氧，臭氧进一步分解产生更多活性氧。特定合适的照度可以对基材表面完成纳米级别改性。这种清洗方式不仅高效去除表面有机污染物，还不会对基材表
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半导体行业的精进不断推动着光源技术的发展。172nm准分子灯作为一种专业的光源，以其独特的光谱特性，在半导体制造的多个关键环节中展现出了巨大的应用潜力。广明源20多年来专注于光科技应用的研发与制造，致力于为合作伙伴提供高性价比的光科技解决方案。本文我们共同探讨172nm准分子灯在光清洗、光固化、亲水改性以及纯水制备TOC降解这四个方面的应用。 光清洗应用在半导体芯片制造过程中，基材表面的清洁度对器件性能有着直接影响。172nm准分子灯发出的深紫外线光能有效清除基材表面的有机污染物和微粒，实现高精度的光清洗。应用优势：l 高清洁效率：深紫外线光子能量足以断裂大多数化学键，实现快速清洗。l 无残留
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