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展会首日直击|广明源172nm准分子解决方案,赋能半导体精密制造

9 月 9 日,第27届中国国际光电博览会(CIOE)、国际集成电路创新博览会(IICIE)、elexcon深圳国际电子展暨嵌入式展三展联动,在深圳国际会展中心盛大启幕。广明源亮相14C108 展位,带来 172nm 准分子系列及 RTP 系统解决方案,诚邀各界同仁莅临展位交流合作,共探光电技术国产化创新路径。

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2026 09-09
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展会邀约 | 广明源携172nm准分子解决方案,亮相第27届中国光博览会&国际集成电路创新博览会

2026年9月9-11日,广明源将携172nm准分子系列产品及光科技解决方案,在深圳国际会展中心(宝安)14C108展位重磅亮相。诚邀各界合作伙伴、行业专家莅临参观指导,共同探讨光科技在半导体、光电显示、纯水处理等领域的创新应用!

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2026 09-04
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172nm准分子光清洗实验:纳米级去污与表面亲水活化

针对高端制造传统湿法清洗易留化学残留、损伤精密器件,且纳米级有机污染难以清理的痛点,172nm准分子干式清洗技术可有效破解难题。该真空紫外光能量高,可直接断裂有机物分子键,同时激发空气产生活性氧,通过光化学反应彻底分解单分子级有机污染物,实现原子级洁净度。其还能对材料表面亲水活化,大幅降低水滴接触角,提升基材附着力。该技术适配半导体、光电显示、精密材料、医疗部件等多类高端场景,国产广明源可提供全链路解决方案,助力企业降本增效、实现工艺升级。

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2026 08-29
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172nm晶圆光清洗方案 助力半导体国产替代

广明源自主研发172nm晶圆光清洗模组,突破半导体国产替代瓶颈,采用非接触式准分子紫外光技术,精准分解12寸晶圆表面纳米级有机污染物及光刻胶残留,避免热应力损伤。172nm准分子灯(平板/网状电极圆管)适用于半导体晶圆清洗与去胶、光学透镜清洁、TFT/OLED的TFT生产(去除光刻胶残留)以及高精度PCB表面处理。作为国产172nm准分子光源核心供应商,提供定制化清洗解决方案,推动半导体晶圆光清洗设备国产化,保障产业链安全稳定。

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2025 04-23
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邀请函| 广明源邀您共赴亚洲水技术展览会

2024亚洲水技术展览会将于12月11-13日在上海新国际博览中心盛大开幕。广明源诚挚邀请您莅临N1A65展位,共同探讨光科技在水行业的多元化应用,共襄行业盛会!

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2024 11-26

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