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广明源自主研发172nm晶圆光清洗模组，突破半导体国产替代瓶颈，采用非接触式准分子紫外光技术，精准分解12寸晶圆表面纳米级有机污染物及光刻胶残留，避免热应力损伤。172nm准分子灯（平板/网状电极圆管）适用于半导体晶圆清洗与去胶、光学透镜清洁、TFT/OLED的TFT生产（去除光刻胶残留）以及高精度PCB表面处理。作为国产172nm准分子光源核心供应商，提供定制化清洗解决方案，推动半导体晶圆光清洗设备国产化，保障产业链安全稳定。
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2024亚洲水技术展览会将于12月11-13日在上海新国际博览中心盛大开幕。广明源诚挚邀请您莅临N1A65展位，共同探讨光科技在水行业的多元化应用，共襄行业盛会！
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11月8日，深圳国际全触与显示展圆满闭幕。广明源在此次展会中隆重展出了光清洗、光固化、光改性及纯水处理 TOC 降解等多项先进的光科技解决方案，成功吸引了众多参观者的目光。其中，172nm 光清洗准分子灯以其创新性的设计和高效的性能，成为本次展会的一大亮点。 172nm光清洗准分子灯创新光清洗技术广明源的172nm光清洗准分子灯可以辐射高能的172nm紫外线，其高能光子能够打破有机污染物分子的化学键，有效将其分解为水和二氧化碳。应用领域：它主要应用于显示器基板、半导体硅晶圆、集成电路、光学器件、LCD、电子纸、AR镜片及微纳制造等领域的材料清洗，为这些行业提供技术支持。172nm高能紫外仪光
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26载凝心聚力，与光同行广明源生日快乐2024年8月9日今天，是广明源的第26个生日。26年前，风雨兼程，砥砺前行；312个月，笃志向新，与光同行；9496个朝夕，见证光科技创新的力量。在此，感谢合作伙伴们一直以来的信赖与支持，感谢全体员工的辛勤付出。 创新是第一动力26载初心不改，追寻光的步伐永不停息。广明源以锲而不舍的创新精神积极参与国家重点项目研发，并为各行业的合作伙伴提供优质的光科技解决方案。 国家重点研发项目l 承担国家重点研发计划项目《冷链物流消毒与人机共存场景下绿色智能消毒关键技术与装备研发》。l 与中国科学院电工研究所合作开展，储能电容器薄膜性能突破研究。 光科技创新应用近年来
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随着科技飞速发展，半导体行业在现代工业中扮演着关键角色，涵盖从计算机、智能手机到各种家用电器。然而，半导体制造过程复杂且严格，任何微小污染或缺陷都会严重影响产品的良率和性能。因此，高效、无损的清洗技术在半导体生产中尤为重要。广明源推出了创新的172nm高能光清洗机，为半导体行业提供一种革新的清洗方案。 广明源172nm高能光清洗机利用高能量的172nm紫外光子，能够切断有机物分子的化学键，使其分解成更小的分子自由基。同时，空气中的氧气吸收这些光子后生成活性氧和臭氧，臭氧进一步分解产生更多活性氧。特定合适的照度可以对基材表面完成纳米级别改性。这种清洗方式不仅高效去除表面有机污染物，还不会对基材表
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