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172nm高能光清洗机:高效表面处理的创新之选

浏览数量: 1248     作者: 广明源     发布时间: 2024-07-23      来源: 本站

随着科技飞速发展,半导体行业在现代工业中扮演着关键角色,涵盖从计算机、智能手机到各种家用电器。然而,半导体制造过程复杂且严格,任何微小污染或缺陷都会严重影响产品的良率和性能。因此,高效、无损的清洗技术在半导体生产中尤为重要。广明源推出了创新的172nm高能光清洗机,为半导体行业提供一种革新的清洗方案。



广明源172nm高能光清洗机利用高能量的172nm紫外光子,能够切断有机物分子的化学键,使其分解成更小的分子自由基。同时,空气中的氧气吸收这些光子后生成活性氧和臭氧,臭氧进一步分解产生更多活性氧。特定合适的照度可以对基材表面完成纳米级别改性。这种清洗方式不仅高效去除表面有机污染物,还不会对基材表面造成损伤,实现无损清洗。

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产品特点:

高能光清洗: 利用172nm 光源,高效分解基材上的灰尘、脂肪和油污等有机物,实现高精度清洗,提升产品合格率。

环保节能: 无需使用有害化学物质和耗材,实现环保清洗,降低能耗。

技术优势: 采用准分子技术,高能低穿透,避免静电干扰,确保无接触操作,不损伤基材,不改变机械性能。

效率提升: 快速照射基材,缩短清洗周期,提高生产效率。

自动化控制: 自动化控制系统确保清洗过程的精确性和可重复性,简化操作流程。

均匀辐射: 在整个辐射区域内提供优良的均匀性,恒定强度输出,确保清洗过程持续稳定。

专业定制: 可根据客户需求定制不同面积的照射平台和不同强度、功率的设备,以适应各种不同基材和应用场景的需求。

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应用前景:

广明源的172nm高能光清洗机不仅在半导体制造中表现出色,还在其他高精度领域展现出巨大潜力。



172光清洗机应用





广明源专注于光科技应用的研发与制造,专业研发团队积极探索172nm光清洗技术的多元应用,为半导体、精密制造等行业领域带来更多创新可靠的光科技解决方案,助力提升生产效率与产品质量,共同推动企业高质量发展。


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