172nm高能光清洗机：高效表面处理的创新之选

随着科技飞速发展，半导体行业在现代工业中扮演着关键角色，涵盖从计算机、智能手机到各种家用电器。然而，半导体制造过程复杂且严格，任何微小污染或缺陷都会严重影响产品的良率和性能。因此，高效、无损的清洗技术在半导体生产中尤为重要。广明源推出了创新的172nm高能光清洗机，为半导体行业提供一种革新的清洗方案。

广明源172nm高能光清洗机利用高能量的172nm紫外光子，能够切断有机物分子的化学键，使其分解成更小的分子自由基。同时，空气中的氧气吸收这些光子后生成活性氧和臭氧，臭氧进一步分解产生更多活性氧。特定合适的照度可以对基材表面完成纳米级别改性。这种清洗方式不仅高效去除表面有机污染物，还不会对基材表面造成损伤，实现无损清洗。

产品特点：

●高能光清洗: 利用172nm 光源，高效分解基材上的灰尘、脂肪和油污等有机物，实现高精度清洗，提升产品合格率。

●环保节能: 无需使用有害化学物质和耗材，实现环保清洗，降低能耗。

●技术优势: 采用准分子技术，高能低穿透，避免静电干扰，确保无接触操作，不损伤基材，不改变机械性能。

●效率提升: 快速照射基材，缩短清洗周期，提高生产效率。

●自动化控制: 自动化控制系统确保清洗过程的精确性和可重复性，简化操作流程。

●均匀辐射: 在整个辐射区域内提供优良的均匀性，恒定强度输出，确保清洗过程持续稳定。

●专业定制: 可根据客户需求定制不同面积的照射平台和不同强度、功率的设备，以适应各种不同基材和应用场景的需求。

应用前景：

广明源的172nm高能光清洗机不仅在半导体制造中表现出色，还在其他高精度领域展现出巨大潜力。

广明源专注于光科技应用的研发与制造，专业研发团队积极探索172nm光清洗技术的多元应用，为半导体、精密制造等行业领域带来更多创新可靠的光科技解决方案，助力提升生产效率与产品质量，共同推动企业高质量发展。