172nm准分子光清洗实验：纳米级去污与表面亲水活化

针对高端制造传统湿法清洗易留化学残留、损伤精密器件，且纳米级有机污染难以清理的痛点，172nm准分子干式清洗技术可有效破解难题。该真空紫外光能量高，可直接断裂有机物分子键，同时激发空气产生活性氧，通过光化学反应彻底分解单分子级有机污染物，实现原子级洁净度。其还能对材料表面亲水活化，大幅降低水滴接触角，提升基材附着力。该技术适配半导体、光电显示、精密材料、医疗部件等多类高端场景，国产广明源可提供全链路解决方案，助力企业降本增效、实现工艺升级。

广明源28周年 | 以光为核，重构产业新可能

国际半导体展看点速览|广明源172nm MINI实验模组首秀亮相

本次展会，广明源将首发推出自主研发的新品——172nm MINI实验模组。该产品专为半导体工艺研发、制程验证及小批量试产环节设计，具备结构精简、成本可控、桌面即放即用、便携灵活等特点，适配多种实验环境与制程需求。

172nm晶圆光清洗方案 助力半导体国产替代

广明源自主研发172nm晶圆光清洗模组，突破半导体国产替代瓶颈，采用非接触式准分子紫外光技术，精准分解12寸晶圆表面纳米级有机污染物及光刻胶残留，避免热应力损伤。172nm准分子灯（平板/网状电极圆管）适用于半导体晶圆清洗与去胶、光学透镜清洁、TFT/OLED的TFT生产（去除光刻胶残留）以及高精度PCB表面处理。作为国产172nm准分子光源核心供应商，提供定制化清洗解决方案，推动半导体晶圆光清洗设备国产化，保障产业链安全稳定。