广明源光清洗技术基于光化学氧化原理，通过照射172nm紫外线在有机物表面产生自由基，带自由基的有机物和氧自由基碰撞形成氧化反应，将有机物氧化为水和二氧化碳，从而有效去除物质表面附着的有机物。广明源紫外线光清洗技术作为一种创新光化学方法，集绿色环保、高效可靠等优点于一体，经过光清洗后的材料表面可以达到“原子清洁度”。

纯水TOC降解处理是一种高效去除水中有机物的方法，而高能紫外线的辐照处理是在获得超纯水的处理工序中至关重要的一步。广明源172nm紫外氧化处理技术是利用先进的无汞紫外光技术发射高能172nm紫外光，促使水体中生成自由基，进而将有机物氧化为二氧化碳(CO2)和水(H2O)分子，实现高效快速地降解TOC，从而将水中TOC含量降低到ppb级别。