9月10日，SEMI-e深圳国际半导体展暨2025集成电路产业创新展在深圳国际会展中心（宝安）顺利开幕。广明源（展位号：13G27）在展会中重点展示了172nm准分子光应用方案及系列创新产品，吸引了业内人士的广泛关注。

本次展出的172nm准分子光应用系列方案，主要覆盖半导体等高端制造的关键制程与工艺研发环节，包括光清洗、光固化、光改性及超纯水TOC降解等，为企业提供可控且环保的技术方案，支持核心工艺实现国产化替代。

晶圆/掩膜板光清洗解决方案：

高效去除晶圆及掩膜板表面微观有机污染物，实现原子级洁净处理，无化学残留、低温无损伤。

晶圆键合改性解决方案：

通过精准调节表面亲水性和粘附性能，提升键合效果，处理快速、低热效应且无化学残留。

超纯水TOC降解解决方案：

高效降解超纯水系统中的总有机碳（TOC），洁净度可达ppb级，无化学添加，支持在线连续处理，稳定可靠。

制程验证开发解决方案：

针对工艺研发、制程验证和小批量试产设计的172nm MINI实验模组，结构紧凑、灵活可移、部署便捷，适用于多种实验环境及工艺验证需求。

展会期间，广明源团队与观众进行了深入交流，介绍了各类应用方案的技术特点及实际应用效果，获得了积极反馈。

深圳SEMI-e将持续至9月12日，广明源诚邀各界同仁莅临展位（13G27）参观交流，共同探讨172nm准分子光技术在半导体及相关领域的应用与发展。