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广明源邀您参加CSEAC 2025第十三届半导体设备与核心部件及材料展

浏览数量: 962     作者: 广明源光科技     发布时间: 2025-08-23      来源: 广明源光科技

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9月4日至6日,第十三届半导体设备与核心部件及材料展(CSEAC 2025)将在无锡太湖国际博览中心举行。本届展会以“做强中国芯,拥抱芯世界”为主题,汇聚国内外领先企业和前沿技术,是我国半导体设备与核心部件及材料领域的重要年度平台,集“技术交流、展览展示、产品发布、经贸洽谈、国际合作及市场拓展”于一体的产业盛宴。


广明源将携 172nm准分子光源与模组设备亮相本届展会,重点展示在晶圆清洗、表面改性、超纯水 TOC 处理及工艺验证开发等关键环节的应用。诚挚邀请您莅临广明源展位(B1-219),与我们深入交流,共同探讨产业前沿与合作机遇。


2025CSEAC第十三届半导体设备与核心部件及材料展


展品预览

172nm准分子光源


172nm光清洗光源

光清洗

通过172nm高能紫外线激发自由基,氧化分解表面有机物,达到原子级洁净度。

172nm光改性光源

表面改性

在材料表面引入-OH极性基团,提升表面能与亲水性,改善后续工艺粘附效果。


172nm 纯水处理TOC降解

纯水处理TOC 降解

利用172nm紫外氧化技术,将水中的有机物高效降解为CO₂和H₂O,TOC水平可降低至ppb级。

172nm光固化光源

光固化

高能光子快速引发聚合反应,实现材料表面高效固化,具备速度快、能耗低、环保等优势。


172nm准分子模组及设备


172nm MINI模组

172nm MINI实验模组

专为半导体工艺研发、制程验证及小批量试产设计,具备结构紧凑、便于部署、灵活可移、成本可控等特点,适用于多种实验环境及工艺验证需求。

高能紫外仪

高能紫外仪

该模组支持实验验证与应用开发,大幅缩短验证周期,加速成果落地,适用于光清洗、光固化及光改性等领域。

172nm晶圆光清洗模组

晶圆光清洗模组

该模组专为晶圆基材光清洗设计,可高效去除纳米级有机污染物,提升后续镀膜/键合工艺良率。


全流程定制方案支持

围绕高端制造制程工艺需求,提供172nm 准分子光源与模组的定制化服务,覆盖从实验验证到量产应用的不同阶段,助力实现更高效、更可靠的工艺方案。


172nm 准分子光源及模组设备


广明源期待与您在 CSEAC 2025 相聚,共同交流前沿技术,分享实践经验,携手探索更多合作机会。


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